一种放射源
授权
摘要
本新型涉及一种放射源，属于放射源制备技术领域，取预定体积的碳酸盐粉末悬浊液和至少一吸附膜，并将所取预定体积的碳酸盐粉末悬浊液均匀涂抹到吸附膜上，以形成放射源载体；取至少一有机膜与镀铝PET薄膜，将放射源载体密封在有机膜与镀铝PET薄膜之间，以形成源片；取至少一放射源壳体，将源片封装于放射源外壳中，即形成放射源。本新型的制备方法简单、放射性核素利用率高、安全可靠。解决了β射线自吸收大、原料不易混合均匀、密封膜晃动等问题。
基本信息
专利标题 ：
一种放射源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920450944.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-03
授权号 ：
CN210200329U
授权日 ：
2020-03-27
发明人 ：
高岩崔洪起史晨钟任春侠陈晨王念谭小明
申请人 ：
原子高科股份有限公司
申请人地址 ：
北京市房山区原子能院北区
代理机构 ：
北京中济纬天专利代理有限公司
代理人 ：
杨乐
优先权 ：
CN201920450944.7
主分类号 ：
G21G4/06
IPC分类号 ：
G21G4/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21G
化学元素的转变；放射源
G21G4/00
放射源
G21G4/04
除中子源外其他的放射源
G21G4/06
按结构特点区分
法律状态
2020-03-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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