一种有机发光二极管基板处理设备
授权
摘要
本实用新型涉及显示技术领域，具体涉及一种有机发光二极管基板处理设备；目的是提供一种基板处理设备；技术方案是：包括依次相连的清洗槽、风干室、烘烤室，清洗槽与风干室连接处设有第一封闭门，风干室与烘烤室连接处设有第二封闭门；清洗槽、风干室、烘烤室底部均设有基板传送机构，基板传送机构可将基板从清洗槽向烘烤室传送；清洗槽内还设置有超声波振荡器、槽底设置有放水阀，风干室设置有若干向基板传送机构送风的出风头，出风头通过第一开关阀与风干室外的保护气储罐相连，烘烤室内设置有加热部件、侧壁设有第三封闭门用于取出基板。本实用新型可对有机发光二极管基板进行清洗、烘烤一体化处理，具有处理效果好、效率高的特点。
基本信息
专利标题 ：
一种有机发光二极管基板处理设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920465805.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-08
授权号 ：
CN209515742U
授权日 ：
2019-10-18
发明人 ：
王宏宇
申请人 ：
成都拓维高科光电科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市中国（四川）自由贸易试验区成都高新区世纪城南路599号6栋5层505号
代理机构 ：
成都行之专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
高俊
优先权 ：
CN201920465805.1
主分类号 ：
H01L51/50
IPC分类号 ：
H01L51/50 H01L51/56 H01L21/67
法律状态
2019-10-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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