多区可旋转扩散器装置
授权
摘要
本公开内容涉及用在半导体工艺腔室中的可旋转扩散器装置。所述装置包括扩散器板，所述扩散器板具有设置在横跨所述板的区域中的孔。设置为穿过动态流体密封件的轴允许所述板旋转，同时维持所述腔室内的所期望的压力。可以旋转所述板以使所述区域中的孔对准设置在固定的区隔板中的孔。通过改变对准的孔的量或者扩散器的不同区域中的对准程度，可以调整工艺气体的径向分布。
基本信息
专利标题 ：
多区可旋转扩散器装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920466171.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-08
授权号 ：
CN209929265U
授权日 ：
2020-01-10
发明人 ：
A·古纳吉K·嘉纳基拉曼M·C·古莱德古德A·达纳希尔
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
侯颖媖
优先权 ：
CN201920466171.1
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-01-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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