铜电积设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种铜电积设备，包括两个主梁、两个导电板、多个阳极板、多个阴极板和多个边框。两个主梁沿前后方向延伸且左右间隔相对设置；两个导电板分别设置在两个主梁上；多个阳极板和多个阴极板竖向设置且沿前后方向间隔交错排列安装在两个主梁上，多个阳极板和多个阴极板的两侧分别与两个主梁上的导电板接触；边框设有多个进液嘴和多个出液嘴，多个边框分别设置在两两相邻的阳极板与阴极板之间；当阳极板、阴极板和边框被压紧时，边框分别密封连接在相邻的阴极板的周边部和阳极板的周边部，以使相邻的阴极板和阳极板之间形成密闭空间；当阴极板和边框被拉开时，以取出阴极板。该铜电积设备极间距小，阳极板与阴极板之间平行度高等优点。
基本信息
专利标题 ：
铜电积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920483635.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-10
授权号 ：
CN209941108U
授权日 ：
2020-01-14
发明人 ：
王晓丹李冲徐小锋邬传谷
申请人 ：
中国恩菲工程技术有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区复兴路12号
代理机构 ：
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
宋合成
优先权 ：
CN201920483635.X
主分类号 ：
C25C1/12
IPC分类号 ：
C25C1/12 C25C7/02 C25C7/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25C
电解法生产、回收或精炼金属的工艺；其所用的设备
C25C1/00
由溶液电解法电解生产、回收或精炼金属
C25C1/12
铜的
法律状态
2020-01-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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