一种传热均匀的真空烤箱
授权
摘要
本实用新型涉及一种传热均匀的真空烤箱，包括与真空机组相配合的开口加热腔和安装在所述开口加热腔的开口处以对其进行封闭的气密门，所述开口加热腔内安装有若干导热隔板，所述导热隔板与所述开口加热腔的连接处和/或所述导热隔板底面安装有加热源，所述开口加热腔底部安装有与所述加热源相连的控制柜；与现有技术相比，本实用新型的优点是：有效改善真空烤箱温度均匀性差的问题，提高了真空烤箱内受热器件的受热均匀度,让器件能在要求的温度范围内做有效的烘烤，从而提高红外热成像器件除气效果,延长红外探测器使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种传热均匀的真空烤箱
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920488881.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-11
授权号 ：
CN209783132U
授权日 ：
2019-12-13
发明人 ：
林明芳陈俊宇郭信良
申请人 ：
江苏鼎茂半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区娄葑东富路8号东景工业坊13号厂房
代理机构 ：
北京轻创知识产权代理有限公司
代理人 ：
谈杰
优先权 ：
CN201920488881.4
主分类号 ：
F26B5/04
IPC分类号 ：
F26B5/04 F26B9/06 F26B23/04 F26B25/00 F26B25/06 F26B25/12 F26B25/18
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F26
干燥
F26B
从固体材料或制品中消除液体的干燥
F26B
从固体材料或制品中消除液体的干燥
F26B5/00
不需要使用加热方法干燥固体材料或制品
F26B5/04
借助在低压下湿气的蒸发或升华，例如在真空中
法律状态
2019-12-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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