一种抗吸附增光膜
授权
摘要
本实用新型公开了一种抗吸附增光膜，包括上光学面，所述上光学面的底部固定安装有上抗吸附层，所述上抗吸附层的底部固定安装有上增光膜，所述上增光膜的底部固定安装有黏胶层，所述黏胶层的底部固定安装有下增光膜。该抗吸附增光膜，在使用过程中，通过设置有上抗吸附层和下抗吸附层，其内部的抗吸附粒子可在上增光膜与下增光膜贴合过程中，与贴合层表面形成空隙，便于空气与水气的流通，从而使增光膜的吸附性更好，能更方便工作人员的使用，同时上增光膜与下增光膜可通过黏胶层进行贴合，减少了安装过程中对上增光膜和下增光膜表面造成的损害，也减少了增光膜上下覆膜的成本，更方便使用者的使用。
基本信息
专利标题 ：
一种抗吸附增光膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920514425.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-16
授权号 ：
CN209946421U
授权日 ：
2020-01-14
发明人 ：
吴小辉
申请人 ：
河源市仁浩光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省河源市源城区龙岭工业园YC-AG24b号地块（办公楼）
代理机构 ：
广州瑞之凡知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
邹俊煊
优先权 ：
CN201920514425.2
主分类号 ：
G02B1/11
IPC分类号 ：
G02B1/11
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
法律状态
2020-01-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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