浅层离子气浮机
专利权的终止
摘要
本实用新型涉及气浮机领域,更具体地,涉及一种浅层离子气浮机,包括机架本体、固定在机架本体上的集水槽,其特征在于,还包括:气浮加药系统、澄清水槽和与设置在集水槽内的浮渣池打氧机构,所述气浮加药系统包括加药控制机构与气浮储药腔,所述加药控制机构与气浮储药腔相连接,所述浮渣池打氧机构一端通过导管与集水槽连接,另一端通过澄清水槽与加药控制机构相连接,通过加药控制机构对气浮储药腔的压迫,完成出药,当药由浅层离子气浮机中输出后,浮渣池打氧机构将药剂进行打氧,使得药剂能被快速的进行扩散,从而能更好的净化浅层的水质。
基本信息
专利标题 :
浅层离子气浮机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920517755.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-17
授权号 :
CN209906365U
授权日 :
2020-01-07
发明人 :
刘彬
申请人 :
刘彬
申请人地址 :
广东省广州市白云区龙归管理区太和镇北太路民营科技园白云电气15楼1501至1505
代理机构 :
广州文智专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
刘敏
优先权 :
CN201920517755.7
主分类号 :
C02F1/00
IPC分类号 :
C02F1/00 C02F1/24
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先)
法律状态
2022-04-08 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C02F 1/00
申请日 : 20190417
授权公告日 : 20200107
终止日期 : 20210417
申请日 : 20190417
授权公告日 : 20200107
终止日期 : 20210417
2020-01-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载