晶圆取用装置
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本实用新型涉及半导体领域,公开了一种晶圆取用装置。晶圆取用装置包括取用支架、摩擦小柱和检测件;取用支架包括至少两个支臂;摩擦小柱为至少两个且分别可活动地置于至少两个支臂上,摩擦小柱的上表面突出于支臂的上表面;检测件嵌入在取用支架上且其厚度小于取用支架的厚度。本实用新型提供的晶圆取用装置,通过在取用支架上设置至少两个支臂并在相应支臂上设置摩擦小柱,同时将摩擦小柱的上表面设置成突出于支臂的上表面、检测件的厚度小于取用支架厚度的形式,保证了使用该晶圆取用装置时,摩擦小柱能够抵接在晶圆的下表面,与晶圆的接触点较小,保证了晶圆表面的洁净度及完整度。此外,该晶圆取用装置还具有结构简单、拆装使用方便等特点。

基本信息
专利标题 :
晶圆取用装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920591764.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-26
授权号 :
CN209515631U
授权日 :
2019-10-18
发明人 :
郝瀚杨振周润锋张浩邵泽强
申请人 :
北京京仪自动化装备技术有限公司
申请人地址 :
北京市大兴区经济技术开发区凉水河二街8号院14楼A座
代理机构 :
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 :
苗青盛
优先权 :
CN201920591764.0
主分类号 :
H01L21/677
IPC分类号 :
H01L21/677  H01L21/687  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/677
用于传送的,例如在不同的工作站之间
法律状态
2021-09-10 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : H01L 21/677
变更事项 : 专利权人
变更前 : 北京京仪自动化装备技术有限公司
变更后 : 北京京仪自动化装备技术股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100176 北京市大兴区经济技术开发区凉水河二街8号院14楼A座
变更后 : 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区凉水河二街8号院14楼A座
2019-10-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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