一种光面爆破率高的施工爆破用爆破结构预埋装置
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及爆破技术领域,且公开了一种光面爆破率高的施工爆破用爆破结构预埋装置,包括预埋块、预埋孔、管套、吸潮层、底盖、火药、密封圈、插块、盖块、引爆线、限位块和引爆针,所述预埋块的顶部开设有预埋孔,所述预埋孔的内部插设有管套,所述管套的内壁设有吸潮层,所述预埋块的内底壁固定连接有底盖,所述底盖的上方填充有火药,所述管套的顶部固定连接有密封圈,所述密封圈的内部插接有插块,所述插块的顶部固定连接有盖块,所述盖块的内部插接有引爆线,所述引爆线的外部固定连接有与盖块相接触的限位块。该光面爆破率高的施工爆破用爆破结构预埋装置,实现了预埋更加稳定的目的,避免引爆失误。

基本信息
专利标题 :
一种光面爆破率高的施工爆破用爆破结构预埋装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920595608.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-28
授权号 :
CN209745139U
授权日 :
2019-12-06
发明人 :
韦金花
申请人 :
韦金花
申请人地址 :
甘肃省陇南市武都区临江镇四新村
代理机构 :
石家庄知住优创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王丽巧
优先权 :
CN201920595608.1
主分类号 :
F42D1/00
IPC分类号 :
F42D1/00  
相关图片
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F42
弹药;爆破
F42D
爆破
F42D
爆破
F42D1/00
爆破方法或设备,例如装填或捣实
法律状态
2022-04-08 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : F42D 1/00
申请日 : 20190428
授权公告日 : 20191206
终止日期 : 20210428
2019-12-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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