自动翻面真空镀膜盘
授权
摘要
自动翻面真空镀膜盘，包括：镜片托盘，镜片托盘为平面圆盘，镜片托盘水平设置在真空镀膜设备的内腔上部，镜片托盘内设多个镜片孔，镜片孔内固定安装一圆环，圆环包括圆环底座和圆环盖，圆环盖的与圆环底座之间设置圆环铰链和圆环卡扣；棱柱短轴，镜片托盘的边缘与一直径相交的两端点处，沿轴向各设置一根棱柱转轴，两棱柱短轴的凹槽插入镜片托盘的边缘并与镜片托盘焊接；卡式短轴，与棱柱短轴配套设置卡式短轴，卡式短轴的一端设置棱柱凹槽，棱柱短轴放置于棱柱凹槽内，卡式短轴的另外一端设置圆柱转轴，右圆柱转轴上套设有从动伞型齿轮，同步电机输出轴上的主动伞型齿轮与从动伞型齿轮垂直啮合并驱动镜片托盘翻面。
基本信息
专利标题 ：
自动翻面真空镀膜盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920603021.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-29
授权号 ：
CN209836297U
授权日 ：
2019-12-24
发明人 ：
欧阳胜明
申请人 ：
望江县天长光学仪器有限公司
申请人地址 ：
安徽省安庆市望江县雅滩镇茗南村（雅滩工业集中区）
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920603021.0
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2019-12-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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