一种从斜坡进入暗挖管廊隧道的洞口加强支护结构
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摘要

本实用新型公开了一种从斜坡进入暗挖管廊隧道的洞口加强支护结构,适用于洞口为斜坡的隧道,该洞口加强支护结构包括多个相邻设置的隧道洞门,每一隧道洞门均包括地梁,多个地梁上设置有承载侧墙,相邻的承载侧墙的上端通过承载拱连接,承载拱内设置有导向套管和大管棚,相邻的两个承载侧墙的下端设置于同一个地梁上。本实用新型在进洞前在隧道开挖轮廓线以外施做钢筋混凝土承载拱、承载侧墙和地梁,并从承载拱内的预埋套管打入大管棚,将洞口部位的上覆地层荷载传递给承载拱,承载拱所承受的部分荷载由大管棚承担,其余荷载将传递给两侧的承载墙,通过承载墙传递给地梁和地梁下的地基土,可以确保由斜坡进入洞口部位的安全。

基本信息
专利标题 :
一种从斜坡进入暗挖管廊隧道的洞口加强支护结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920605089.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-28
授权号 :
CN210152660U
授权日 :
2020-03-17
发明人 :
吕宝山甄志敏杨广超李维川陈君圣贵路李彦杰刘宗伦刘东军
申请人 :
北京万兴建筑集团有限公司
申请人地址 :
北京市大兴区京开兴魏西路(兴丰段)5号院1号楼
代理机构 :
北京彭丽芳知识产权代理有限公司
代理人 :
隋勤
优先权 :
CN201920605089.2
主分类号 :
E21D11/00
IPC分类号 :
E21D11/00  E21D11/10  E21D9/14  
相关图片
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E21
土层或岩石的钻进;采矿
E21D
竖井;隧道;平硐;地下室
E21D11/00
隧道、平硐或其他地下洞室,例如,地下大型硐室的衬砌;其衬砌物;现场制衬砌物,例如,通过组装
法律状态
2020-03-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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