一种无支撑双层弧形钻孔灌注深基坑围护结构

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摘要

本实用新型涉及建筑安全施工技术领域，具体涉及一种无支撑双层弧形钻孔灌注深基坑围护结构，适用于基坑周边环境复杂，渗水较少，对坑顶位移要求严格，不具备封闭成环的基坑支护工程，特别是临时基坑工程；该围护结构包括支点桩、挡土排桩、固定桩和系梁，该支护结构调整了桩孔位置，桩径得以减小，可使用相对较小的成孔设备施工，解决了受限场地下设备施工较难的问题，总体支护费用减小，成本降低；采用弧形的挡土排桩、固定桩和系梁支护，与现有技术相比，本设计在弧形结构端部设置了抵抗类似拱形支点的支点桩的桩基，从受力上增加了抗力，同时，该围护结构形成较大抗倾覆力矩，较常规双排桩更为安全，基坑开挖深度更深。

基本信息

专利标题：

一种无支撑双层弧形钻孔灌注深基坑围护结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920636649.0

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-05-06

授权号：

CN209975535U

授权日：

2020-01-21

发明人：

杨翔张庆明易雄川江真张志飞李丽萍陶伟向起来李晓倩

申请人：

重庆建工市政交通工程有限责任公司;重庆建工集团股份有限公司

申请人地址：

重庆市经开园北区金开大道1596号建工产业大厦10楼

代理机构：

重庆项乾光宇专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

马光辉

优先权：

CN201920636649.0

主分类号：

E02D17/04

IPC分类号：

E02D17/04 E02D17/02 E02D27/12 E02D33/00 E02D5/38