一种水转印处理的定位组件
授权
摘要

本实用新型公开了一种水转印处理的定位组件,包括模具支架、滑动装置、高度调节装置、滚动装置和定位模板;所述滑动装置包括滑杆、滑环,所述滑环的中心圆孔与滑杆滑动连接,所述高度调节装置包括调节螺柱、轴承、支撑环,所述支撑环上端设有轴承,所述调节螺柱穿过轴承与滑杆端部的螺纹孔螺纹连接;所述滚动装置包括滚动轮、导轨板、导轨槽,所述导轨板的上表面中间设置有导轨槽,所述滚动轮弧面与所述导轨槽下表面滚动连接;本水转印定位处理组件可以沿前后左右上下各个方向调节,方便移动与固定,同时大大降低表面披覆图案的变形量、位移量,确保图案的完整性与图像精准度,获得较好的表面披覆效果,为人们提供了方便。

基本信息
专利标题 :
一种水转印处理的定位组件
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920653417.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-01
授权号 :
CN210362932U
授权日 :
2020-04-21
发明人 :
吴海洋杨建新
申请人 :
浙江安胜科技股份有限公司
申请人地址 :
浙江省金华市永康市经济开发区金山东路28-36号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201920653417.6
主分类号 :
B41F16/00
IPC分类号 :
B41F16/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B41
印刷;排版机;打字机;模印机
B41F
印刷机械或印刷机
B41F16/00
转印印刷设备
法律状态
2020-04-21 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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