一种用于版画制作的绘图架
授权
摘要

本实用新型公开了一种用于版画制作的绘图架,包括底座,所述底座的上端依次设有第一伸缩杆、第二伸缩杆与直杆,所述第一伸缩杆的上端设有除尘机构,所述第二伸缩杆的上端设有第二转轴,所述第二转轴上转动连接有放置架,所述放置架上设有卡槽,所述卡槽内设有刻板,所述放置架的两侧均设有弹簧铁片,两个所述弹簧铁片均通过第三弹簧与放置架的侧壁固定连接,所述放置架上设有限位机构,所述直杆的上端设有放置机构。本实用新型结构设计合理,具有方便刻画以及方便清理刻板上由于刻画产生的木屑,还有方便根据操作人员自身条件调整高度的好处。

基本信息
专利标题 :
一种用于版画制作的绘图架
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920686837.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-13
授权号 :
CN210970490U
授权日 :
2020-07-10
发明人 :
何俊婷
申请人 :
何俊婷
申请人地址 :
广东省河源市源城区龙尾坝路工业村侧边7号
代理机构 :
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司
代理人 :
高志军
优先权 :
CN201920686837.4
主分类号 :
B44B11/02
IPC分类号 :
B44B11/02  B44C5/04  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B44
装饰艺术
B44B
用于艺术制品的机器、设备或工具,例如用于雕塑、扭索饰、雕刻、烙印或镶嵌
B44B11/00
雕塑、搓捏、雕刻、蚀刻、扭索或浮饰用的艺术家手工工具;及其所用的辅助装置
B44B11/02
主要用于两维雕刻、蚀刻或扭索的
法律状态
2020-07-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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