匀胶机真空匀胶装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种匀胶装置,尤其是一种匀胶机真空匀胶装置,属于微纳米的技术领域。按照本实用新型提供的技术方案,所述匀胶机真空匀胶装置,包括托盘以及若干设置于所述托盘中心区的真空槽道区;在所述托盘内还设置大气槽道,所述大气槽道位于真空槽道区的外圈,且大气槽道环绕包围所述真空槽道区,在大气槽道内设置若干大气槽道孔,所述大气槽道孔贯通与大气槽道对应的托盘。本实用新型结构紧凑,能有效防止胶进入真空管路导致真空阀、真空泵堵塞,使用方便,安全可靠。
基本信息
专利标题 :
匀胶机真空匀胶装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920689435.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-15
授权号 :
CN209985708U
授权日 :
2020-01-24
发明人 :
王云翔冒薇段仲伟马冬月许爱玲李晓帅祝翠梅姚园
申请人 :
苏州美图半导体技术有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区星湖街218号生物纳米园A7-506
代理机构 :
南京思拓知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
苗建
优先权 :
CN201920689435.X
主分类号 :
B05C11/02
IPC分类号 :
B05C11/02
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B05
一般喷射或雾化;对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C11/00
在B05C1/00至B05C9/00中没有专门列入的部件、零件及附件
B05C11/02
向已经涂布过的表面涂敷或分布液体或其他流体的装置;涂层厚度的控制
法律状态
2020-01-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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