一种双面测量靶标
授权
摘要

本实用新型公开了一种双面测量靶标,涉及地基检测的技术领域。包括靶标本体、固定在靶标本体一侧的连接杆以及插接设置在靶标本体周侧的反光膜片;靶标本体的两侧均固定有插接框,插接框与靶标本体的侧壁之间形成有插接槽,插接框的一端转动设置有框门,框门靠近靶标本体的一侧固定有橡胶垫。检测时,靶标本体的位置确定后,打开框门,将反光膜片插入到插接槽内,并关闭框门,橡胶垫被挤压在框门与靶标本体之间,增加了框门与靶标本体之间的摩擦力,框门闭合后更加紧密,反光膜片能更加稳定地插接在插接槽内。反光膜片的更换安装更加平整、且安装位置在插接框的限制下更加精准,有利于提高检测的精度,且工人操作更加便捷。

基本信息
专利标题 :
一种双面测量靶标
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920704740.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-17
授权号 :
CN210288510U
授权日 :
2020-04-10
发明人 :
汪雷靳明明
申请人 :
武汉中力岩土工程有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市武昌区小洪山中区10号中科院武汉岩土力学研究所模型楼
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201920704740.1
主分类号 :
E02D33/00
IPC分类号 :
E02D33/00  
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D33/00
基础或基础结构的试验
法律状态
2020-04-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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