一种基体金属微弧氧化处理用微弧氧化槽

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摘要

本实用新型公开了一种基体金属微弧氧化处理用微弧氧化槽，包括微弧氧化槽装置和楼梯，所述微弧氧化槽装置内部底端位置处设置有底部处理板，所述微弧氧化槽装置内部前后两端中间位置处套接有滑动电极装置，所述微弧氧化槽装置内部位置处设置有微弧氧化处理液，因为安装有微弧氧化槽装置和滑动电极装置，所以在长时间使用微弧氧化槽的时候，工作人员就需要对滑动电极装置进行更换，这时候通过向上移动滑动电极装置，使得滑动电极装置中的滑动体在微弧氧化槽装置中的滑动槽内部向上移动，从而使得滑动电极装置与微弧氧化槽装置滑动分离，方便了滑动电极装置的更换和清洗，同时也避免了电极体的损坏，这样不仅提高了更换效率，而且还降低了设备的损坏率。

基本信息

专利标题：

一种基体金属微弧氧化处理用微弧氧化槽

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920714108.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-05-18

授权号：

CN210237809U

授权日：

2020-04-03

发明人：

喻绍森

申请人：

苏州斯瑞克新材料科技有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市昆山市玉山镇晨淞路186号

代理机构：

北京盛凡智荣知识产权代理有限公司

代理人：

蔡奂

优先权：

CN201920714108.5

主分类号：

C25D11/02

IPC分类号：

C25D11/02