一种反应釜液位控制装置
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摘要
一种反应釜液位控制装置，包括反应釜，反应釜顶部设置有进料口及放空口，所述放空口与放空管线连接，所述反应釜底部设置有溢流口，所述溢流口通过出料管与液位控制管路连接，所述液位控制管路包括竖直设置的溢料进料管、溢料出料管以及水平设置的溢料管、液位控制管，溢流管的水平位置与反应釜内允许的最高液位平齐，溢流管的一端与溢料进料管连接，溢料管的另一端与溢料出料管连接，所述液位控制管水平设置，液位控制管的水平位置位于溢料管的下方并且位于反应釜底部水平位置的上方，液位控制管上设置有截止阀；提供一种低成本液位控制装置，可以灵活控制反应釜内液位高度，设备投资小，操作简便。
基本信息
专利标题 ：
一种反应釜液位控制装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920715197.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-20
授权号 ：
CN210776331U
授权日 ：
2020-06-16
发明人 ：
苗青钱卫国李太军刘文强徐志国
申请人 ：
河南东泰制药有限公司
申请人地址 ：
河南省安阳市汤阴县长虹路东段
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920715197.5
主分类号 ：
G05D9/02
IPC分类号 ：
G05D9/02 B01J19/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制；调节
G05D
非电变量的控制或调节系统
G05D9/00
液位控制，例如控制存储在容器中的材料量
G05D9/02
无辅助动力的
法律状态
2020-06-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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