模拟管幕暗挖的试验装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种模拟管幕暗挖的试验装置，属于地下空间开发技术领域，通过管幕暗挖的小比尺试验，为管幕暗挖技术提供理论基础。该模拟管幕暗挖的试验装置，包括模型试验箱、水平支撑装置、钢管桩围护结构以及土体，所述模型试验箱为敞口式，模型试验箱填充土体，土体由下至上包括砂土和饱和软土；模型试验箱侧壁下方设有排水孔；水平支撑装置与模型试验箱螺栓连接，为小比尺试验装置，与原型呈一定比例。通过该装置，可以模拟管幕暗挖过程中对周围土体的扰动、围护结构物理力学性状以及管幕暗挖的结构安全稳定性，为管幕暗挖技术积累理论基础，为以后在工程上的应用奠定坚实的基础。
基本信息
专利标题 ：
模拟管幕暗挖的试验装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920725085.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-21
授权号 ：
CN210141128U
授权日 ：
2020-03-13
发明人 ：
孙廉威韦实梁荣柱王新新
申请人 ：
上海建工集团股份有限公司;中国地质大学（武汉）
申请人地址 ：
上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区福山路33号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920725085.8
主分类号 ：
E21D9/00
IPC分类号 ：
E21D9/00 E21D11/00 E21D11/14
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E21
土层或岩石的钻进；采矿
E21D
竖井；隧道；平硐；地下室
E21D9/00
衬砌或不衬砌的隧道或平硐；其掘进的方法或设备；隧道、平硐的设计布置
法律状态
2020-03-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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