一种全自动溅镀装置
授权
摘要
本实用新型提供一种全自动溅镀装置，包括：溅镀仓，所述溅镀仓上端设有上固定板、下端设有下固定板，下固定板安装在设备支架上，所述上固定板上设有阳极电极、所述下固定板上设有阴极电极，所述阳极电极通过阳极电极固定支架安装在上固定板，阴极电极通过阴极电极固定支架安装在下固定板上，所述溅镀仓一侧设有溅镀气体入口、另一侧设有抽真空排出口，所述溅镀仓内设有溅镀件固定支架，溅镀件固定支架一端安装在旋转电机上，所述旋转电机通过电机固定座安装在溅镀仓内。本实用新型，可以对溅镀件进行立体溅镀，大大提高了自动化程度，而且，特别适用于中空物件的溅镀，可以提高溅镀效率。
基本信息
专利标题 ：
一种全自动溅镀装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920728459.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-21
授权号 ：
CN210314466U
授权日 ：
2020-04-14
发明人 ：
陈道理
申请人 ：
盱眙新远光学科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省淮安市马坝镇文明东路1188号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920728459.1
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2020-04-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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