真空罐内的轨道环绕加热装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空罐内的轨道环绕加热装置，包括底座、环形导轨、环导轨驱动装置、折光镜、折光驱动装置、激光支架、聚光支架、聚光镜和激光发生器，底座固定在热真空罐的内壁上，底座上设置有环绕整个被测件设置的环形导轨，环形导轨上设置有能够沿着导轨的环导轨驱动装置，激光支架、聚光支架和折光驱动装置从上至下依次设置在环导轨驱动装置上，激光发生器安装在激光支架上，聚光镜安装在聚光支架上，折光镜安装在折光驱动装置上。本实用新型设置在热真空箱内，可以对真空箱内的待测件进行加热，针对工件位置调整具体的加热位置，实现待加热位置的快速加热；通过加热位置高度和加热位置水平位置的调整，实现任意位置的无死角加热。
基本信息
专利标题 ：
真空罐内的轨道环绕加热装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920732951.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-21
授权号 ：
CN210514133U
授权日 ：
2020-05-12
发明人 ：
万鸿超单晓杭孙建辉张利
申请人 ：
浙江工业大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市下城区朝晖六区潮王路18号
代理机构 ：
杭州浙科专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
吴秉中
优先权 ：
CN201920732951.6
主分类号 ：
G01N25/00
IPC分类号 ：
G01N25/00 G01N25/20 G05D23/19
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N25/00
应用热方法测试或分析材料
法律状态
2020-05-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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