一种八字环形腔的结构
授权
摘要
本实用新型涉及非线性光物理领域，提出了一种八字环形腔的结构，包括底座，底座上方设置有盖板，形成封闭壳体；底座上固定设置有反射镜架和五维位移台，五维位移台上设置有隔热座，隔热座内设置有凹槽，凹槽内设置有帕尔帖元件，凹槽上方设置有加热底板，加热底板上设置有晶体座，晶体座上设置有长槽，晶体设置在长槽上，并通过Z型的加热顶板固定，晶体座上还设置有用于放置热敏电阻的测温孔；加热顶板包括上板，竖板和下板，上板紧靠晶体座的上表面，竖板紧靠晶体座的侧表面，下板紧靠加热底板的上表面。本实用新型方便调节，使用范围广，稳定性及精细度高，可以广泛应用于非线性光学领域。
基本信息
专利标题 ：
一种八字环形腔的结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920781781.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-28
授权号 ：
CN209896432U
授权日 ：
2020-01-03
发明人 ：
元晋鹏汪丽蓉刘浩
申请人 ：
山西大学
申请人地址 ：
山西省太原市坞城路92号
代理机构 ：
太原晋科知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
任林芳
优先权 ：
CN201920781781.0
主分类号 ：
H01S3/08
IPC分类号 ：
H01S3/08 H01S3/083 H01S3/042
法律状态
2020-01-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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