眼镜抗紫外辐射试验机
专利权的终止
摘要

眼镜抗紫外辐射试验机,包括柜体,柜体内顶部设置氙灯,氙灯的下方设置试样放置台,试样放置台上设置样品放置槽,样品放置槽的下方设置光强度传感器,光强度传感器与处理器连接,处理器上设置数据接口,试样放置台的底部中央位置与电机的输出轴固定连接。本实用新型通过光强度传感器能够检测出透过镜片的紫外光强度,从而根据氙灯的紫外光强度判断防紫外辐射效果;同时光强度传感器实时将光强度信号传递给处理器进行存储,测试完成后通过数据接口将处理器中的各光强度传感器的紫外光强度变化做成折线图从而判断对应镜片随时间进程与老化程度的关系,从而无需人工定时观看即可判断镜片的抗老化性能。

基本信息
专利标题 :
眼镜抗紫外辐射试验机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920801930.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-30
授权号 :
CN209945997U
授权日 :
2020-01-14
发明人 :
王疆仵建国
申请人 :
温州际高检测仪器有限公司
申请人地址 :
浙江省温州市瓯海区新桥街道前花工业区金达路45号
代理机构 :
济南鼎信专利商标代理事务所(普通合伙)
代理人 :
初敏敏
优先权 :
CN201920801930.5
主分类号 :
G01N21/33
IPC分类号 :
G01N21/33  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/25
颜色;光谱性质,即比较材料对两个或多个不同波长或波段的光的影响
G01N21/31
测试材料在特定元素或分子的特征波长下的相对效应,例如原子吸收光谱术
G01N21/33
利用紫外光
法律状态
2022-05-17 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G01N 21/33
申请日 : 20190530
授权公告日 : 20200114
终止日期 : 20210530
2020-01-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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