一种具有清洗与烘干功能的二极管工作台
授权
摘要
本实用新型公开了一种具有清洗与烘干功能的二极管工作台，包括清洗槽支架、固定孔、引流槽棒、挡水板、过滤网、导流幕布、清洗架支座、电阻开关旋钮A、清洗淋头、可伸缩供水管、供水管支座、水桶、转移镊夹、烘干箱电机、电阻发热盒、风孔、烘干箱门开关、凹槽卡扣、支托架、活动轴、卡扣、闭合门、烘干箱、把手、烘干箱电机支架、支架底座、电阻开关旋钮B、收纳抽屉、工作台和防滑垫片，本实用新型的有益效果是：清洗淋头清洗面积大能均匀清洗二极管，烘干箱烘干效率高，清洗设备与烘干设备设置在同一台面上，缩短程序工艺，减小工人劳动强度，提高工人生产效率，节省厂房生产空间。
基本信息
专利标题 ：
一种具有清洗与烘干功能的二极管工作台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920805505.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-31
授权号 ：
CN210223957U
授权日 ：
2020-03-31
发明人 ：
储小兰
申请人 ：
泗阳群鑫电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省宿迁市泗阳县卢集镇大元路北侧贵嘴路西侧全民创业园
代理机构 ：
常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王清
优先权 ：
CN201920805505.3
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-03-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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