一种减少背景干扰的装置
专利权的终止
摘要

本实用新型提供了一种减少背景干扰的装置,包括下模具,下模具的顶端插接有上模具,下模具的正面开设有两个空腔,两个空腔的顶端延伸至下模具的顶端,两个空腔分别位于工件槽的左右两侧,空腔内部的底端固定连接有风机,风机的出风口固定连接有风琴导风管,隔板的顶端固定连接有弹出装置,弹出装置的顶端固定连接有连接块,连接块的顶端连接有扇形吹风头,下模具的正面开设有两个通风口,下模具的外侧设置有氮气罐,氮气罐与两个通风口之间通过导气管相连通。本方案减少背景干扰的装置,能够减少氦气背景干扰。

基本信息
专利标题 :
一种减少背景干扰的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920814372.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-31
授权号 :
CN209783839U
授权日 :
2019-12-13
发明人 :
朱迎青
申请人 :
安徽歌博科技有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市蜀山区环湖东路118号蓝山名邸13幢101室
代理机构 :
北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
苏友娟
优先权 :
CN201920814372.6
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2021-05-11 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G01M 3/20
申请日 : 20190531
授权公告日 : 20191213
终止日期 : 20200531
2019-12-13 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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