用于低放废液的吸附装置
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摘要

本实用新型涉及一种用于低放废液的吸附装置,包括壳体、两个隔板、吸附件及排液阀。通过设置上述的用于低放废液的吸附装置,将壳体按照进液口在上排液口在下的方向放置,低放废液可从进液口进入进液腔,然后进入到吸附腔中与吸附腔中的吸附件进行离子交换,经过离子交换的低放废液部分会流入到排液腔中,另一部分则会通过与吸附腔连通的出液口排出,而进入到排液腔中的经离子交换的低放废液可通过排液阀控制打开排液口排出。经过离子交换的低放废液会先汇集在底部的排液腔,充满排液腔后会经处理的低放废液的液位会上升到吸附腔内,直到液位到达出液口的高度再排出,保证了低放废液与吸附件进行充分的离子交换,处理量较大,提高了效率。

基本信息
专利标题 :
用于低放废液的吸附装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920821328.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-31
授权号 :
CN210325230U
授权日 :
2020-04-14
发明人 :
王浩宇洪振旻姜磊司鹏昆张宇宏何继强李志全陈定贾振杰
申请人 :
岭东核电有限公司;中广核核电运营有限公司;大亚湾核电运营管理有限责任公司;中国广核集团有限公司;中国广核电力股份有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市福田区深南大道2002福中三路中广核大厦17层
代理机构 :
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 :
周昭
优先权 :
CN201920821328.8
主分类号 :
G21F9/12
IPC分类号 :
G21F9/12  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21F
G21FX射线,γ射线、微粒射线或粒子轰击的防护;处理放射性污染材料;及其去污染装置
G21F9/00
处理放射性污染材料;及其去污装置
G21F9/04
处理液体的
G21F9/06
处理过程
G21F9/12
吸收;吸附;离子交换
法律状态
2020-04-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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