一种带放射性屏蔽结构的低本底实验室
授权
摘要
本实用新型涉及辐射防护技术领域，公开了一种带放射性屏蔽结构的低本底实验室，包括房顶、墙壁、门、通风系统和地板，房顶、墙壁和地板均由混凝土层、铅屏蔽层、不锈钢板层和可吸收中子的隔离层组成；隔离层由多孔结构的碳纳米板和附着于碳纳米板一表面的碳化硼陶瓷层组成；门包括内钢板层和外钢板层，内钢板层与外钢板层之间设置有铅板夹层。本实用新型的房顶、墙壁和地板均由混凝土层、铅屏蔽层、不锈钢板层和可吸收中子的隔离层组成，可实现对中子的隔离与吸收，也能有效隔离次级电离产生的次级射线，保证了实验室内放射性的低本底环境；同时，隔离层包括多孔结构的碳纳米板，可起到较好的保温、隔热和吸隔声的作用。
基本信息
专利标题 ：
一种带放射性屏蔽结构的低本底实验室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920837588.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-04
授权号 ：
CN210325229U
授权日 ：
2020-04-14
发明人 ：
陈立邓晓钦赵强徐斌王亮
申请人 ：
四川省辐射环境管理监测中心站
申请人地址 ：
四川省成都市抚琴西路营通街57号
代理机构 ：
重庆市信立达专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
包晓静
优先权 ：
CN201920837588.4
主分类号 ：
G21F7/00
IPC分类号 ：
G21F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21F
G21FX射线，γ射线、微粒射线或粒子轰击的防护；处理放射性污染材料；及其去污染装置
G21F7/00
加防护的小室或房间
法律状态
2020-04-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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