坡顶支护及排水沟结构
授权
摘要

本实用新型公开了坡顶支护及排水沟结构,包括设置在基坑左侧地面的第一硬化层、设置在基坑右侧地面的第二硬化层、挡水墙、防护栏杆以及设置在基坑内的排水沟结构,排水沟结构包括设置在排水沟底部的混凝土垫层、左侧壁、右侧壁、设置在左侧壁外侧与基坑护坡之间的第三硬化层、设置在右侧壁外侧与基坑护坡之间的第四硬化层、防水层以及设置在排水沟顶部的沟盖板,防水层连续设置在左侧壁、混凝土垫层和右侧壁上;第三硬化层呈倒置的直角梯形,直角梯形的上底面贴合设置在第一硬化层下部。在雨季施工时,可以提高边坡的稳定性,提高边坡的抗变形能力。帮助形成较好的地表水排泄系统,提高整体施工的安全性和稳定性。

基本信息
专利标题 :
坡顶支护及排水沟结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920872286.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-12
授权号 :
CN210216453U
授权日 :
2020-03-31
发明人 :
韦子龙李军姚元朝曲俊杰袁密花李振凯崔秀生贾旭胡东林张高健刘鹏王军成
申请人 :
中建二局第三建筑工程有限公司;中国建筑第二工程局有限公司
申请人地址 :
北京市丰台区海鹰路6号院30号楼
代理机构 :
北京中建联合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
周娓娓
优先权 :
CN201920872286.0
主分类号 :
E02D17/04
IPC分类号 :
E02D17/04  E02D19/06  E02D19/18  E02D31/02  
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D17/00
挖方;挖方边缘的修砌;填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2020-03-31 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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