内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构
授权
摘要
本实用新型提供一种内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构，包括内部可供镀膜管通过的连续镀膜室，所述连续镀膜室由外至内分别设有固定套管、环形的磁铁与环形的靶材，所述固定套管的两端设有真空密封阀，并且设有贯通内外的抽气口与布气管；所述靶材具有数个并且沿镀膜室的轴向拼接，相邻的靶材用绝缘条相互隔绝，数个靶材均连接有外部电源；所述磁铁呈片状，在镀膜室的轴向上依次层叠，与各个靶材分别对应布置。本实用新型可根据需镀膜层的不同要求，设计不同长度的靶材及其组合，然后根据靶材的组成情况，装配于相应长度的固定套管内，而磁铁也可根据靶材长度层叠至相应长度位置，提高内腔式镀膜设备的适应性。
基本信息
专利标题 ：
内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920881152.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-12
授权号 ：
CN210237767U
授权日 ：
2020-04-03
发明人 ：
李峰薛道荣韩成明李强刘子毓
申请人 ：
河北道荣新能源科技有限公司
申请人地址 ：
河北省邢台市威县经济开发区跨越路以东、信德路以北
代理机构 ：
北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
李林
优先权 ：
CN201920881152.5
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2020-04-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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