一种新型PECVD等离子设备智能药水配比系统
专利申请权、专利权的转移
摘要
本实用新型公开一种新型PECVD等离子设备智能药水配比系统，包括一个PECVD等离子设备真空仓体、两个第一药水蒸发罐、一个第二药水蒸发罐、一真空泵组，在PECVD等离子设备真空仓体的外周配设了多个药水蒸发罐，这些药水蒸发罐通过各自对应的多个接口与PECVD等离子设备真空仓体相连，且这些接口在PECVD等离子设备真空仓体上是均匀分布的，从而使得多种药水蒸发罐蒸发出的等离子气体在PECVD等离子设备真空仓体上均匀分布。同时，还配设有真空泵组，真空泵组与PECVD等离子设备真空仓体的两个以上的第三接口相接，相对于传统只有一个接口，两个以上的第三接口使得抽真空更为快速，再配置真空角阀和碟阀，用于与控制中心连接，实现智能控制。
基本信息
专利标题 ：
一种新型PECVD等离子设备智能药水配比系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920897168.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-14
授权号 ：
CN210287521U
授权日 ：
2020-04-10
发明人 ：
杨福年郑锡文
申请人 ：
东莞市和域战士纳米科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市塘厦镇宏业北路99A16号
代理机构 ：
东莞市启信展华知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
冯蓉
优先权 ：
CN201920897168.5
主分类号 ：
C23C16/50
IPC分类号 ：
C23C16/50 C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2021-04-23 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C23C 16/50
登记生效日 : 20210409
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 东莞市和域战士纳米科技有限公司
变更后权利人 : 深圳和力纳米科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 523000 广东省东莞市塘厦镇宏业北路99A16号
变更后权利人 : 518000 广东省深圳市龙华区龙华街道清华社区龙观东路43号力劲厂2栋2层
登记生效日 : 20210409
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 东莞市和域战士纳米科技有限公司
变更后权利人 : 深圳和力纳米科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 523000 广东省东莞市塘厦镇宏业北路99A16号
变更后权利人 : 518000 广东省深圳市龙华区龙华街道清华社区龙观东路43号力劲厂2栋2层
2020-04-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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