一种栅网拼块式金刚石膜制备装置
授权
摘要
本实用新型涉及金刚石膜的制备技术，具体是一种栅网拼块式金刚石膜制备装置。本实用新型解决了采用热丝化学气相沉积法大面积制备金刚石膜时制备质量和速度受限的问题。一种栅网拼块式金刚石膜制备装置，包括圆筒形反应室、外层水管、圆饼形载台、内层水管、径向支撑杆、圆饼形水冷腔、驱动电机、驱动齿轮、L形支撑杆、导电触头、热丝阵列、下径向绝缘筋板、上径向绝缘筋板、下扇形大导电栅网、上扇形大导电栅网、喇叭形导气罩、U形导气管、下圆形小导电栅网、上圆形小导电栅网、放电针、接地针、抽气孔、矩形窗孔、第一至第十三电源。本实用新型适用于金刚石膜的大面积制备。
基本信息
专利标题 ：
一种栅网拼块式金刚石膜制备装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920900231.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-16
授权号 ：
CN210065915U
授权日 ：
2020-02-14
发明人 ：
郝晋青郝昕曈王春涛韩丙辰陈昶陈雪刘嘉
申请人 ：
太原师范学院
申请人地址 ：
山西省晋中市榆次区大学街319号
代理机构 ：
太原新航路知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
王勇
优先权 ：
CN201920900231.6
主分类号 ：
C23C16/27
IPC分类号 ：
C23C16/27 C23C16/455 C23C16/50 C23C16/54 C23C16/458
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/26
仅沉积碳
C23C16/27
仅沉积金刚石
法律状态
2020-02-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
