一种阴极结构、电化学抛光槽及电化学抛光设备
授权
摘要
本实用新型提供了一种阴极结构、电化学抛光槽及电化学抛光设备，该阴极结构包括至少一第一阴极部和至少一第二阴极部，所述第一阴极部与所述第二阴极部相连，所述第一阴极部与所述第二阴极部用于抛光工件的表面。该电化学抛光槽包括上述的阴极结构，该电化学抛光设备包括上述的电化学抛光槽。本实用新型可以使得工件的内表面与外表面都能达到良好的抛光效果，以提高工件内外表面的外观质量，此外，本实用新型提供的组合结构式的阴极结构相比于传统的单一结构式的阴极结构，能够精细地调整工件与阴极结构之间的间距，从而使得具有复杂结构的工件达到比较好的抛光效果。
基本信息
专利标题 ：
一种阴极结构、电化学抛光槽及电化学抛光设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920917050.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-18
授权号 ：
CN210287576U
授权日 ：
2020-04-10
发明人 ：
黄峰王湘鸣尹亚丽赵婧陈国明李雨
申请人 ：
上海微创心通医疗科技有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区张江高科技园区牛顿路501号
代理机构 ：
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 ：
王宏婧
优先权 ：
CN201920917050.4
主分类号 ：
C25F7/00
IPC分类号 ：
C25F7/00 C25F3/16
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法；其所用的设备
C25F7/00
从物体上电解除去材料用电解槽的构件，或其组合件；维护或操作
法律状态
2020-04-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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