还原釜、控制装置及还原浸出反应系统

授权

摘要

本实用新型实施例提出一种还原釜、控制装置、还原浸出反应系统，属于金属冶炼技术领域。所述还原釜包括：所述还原釜的排气管道包括第一分支和第二分支；其中，所述第一分支上设有第一排气调节阀，用于若所述还原釜处于第一段还原反应阶段，使所述还原釜的排气管道与第一段反应釜的排气管道连通；所述第二分支上设有第二排气调节阀，用于若所述还原釜处于第二段还原反应阶段，使所述还原釜的排气管道与第二段反应釜的排气管道连通。本实用新型通过将还原釜的排气管道与第一段反应釜的排气管道或者第二段反应釜的排气管道连通，使得还原釜可以工作在不同的反应阶段，实现了对还原釜的反应状态的灵活调整。

基本信息

专利标题：

还原釜、控制装置及还原浸出反应系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920951063.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-06-21

授权号：

CN210206865U

授权日：

2020-03-31

发明人：

曾令楚王雁飞

申请人：

中国恩菲工程技术有限公司

申请人地址：

北京市海淀区复兴路12号

代理机构：

北京律智知识产权代理有限公司

代理人：

孙宝海

优先权：

CN201920951063.3

主分类号：

B01J19/18

IPC分类号：

B01J19/18 B01J19/00 C22B3/02 C22B3/04