贝式双轴跟踪系统
授权
摘要

本实用新型贝式双轴跟踪系统涉及一种具有逐日功能的跟踪系统。其目的是为了提供一种能够实现精确控制、结构简单、带有自我保护功能的贝式双轴跟踪系统。本实用新型贝式双轴跟踪系统包括环形轨道,环形轨道外侧安装有环形的水平转动齿条,水平转动齿条与转动齿轮电机配合,转动齿轮电机安装在回转框架上,回转框架底部设置有若干个导轮,导轮能够在环形轨道的上表面上转动,回转框架上方设置有翅片轴,翅片轴上固定翅片支撑杆,翅片支撑杆上固定有弧形支撑框架和集热管支撑杆,弧形支撑框架用于安装反射镜,集热管支撑杆用于安装聚光集热管,翅片轴的一端固定有摆杆组件,摆杆组件包括相连接的摆杆和摆杆齿轮,摆杆齿轮与摆动电机齿轮配合。

基本信息
专利标题 :
贝式双轴跟踪系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920952415.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-21
授权号 :
CN209842417U
授权日 :
2019-12-24
发明人 :
魏连国朱马兴
申请人 :
北京中能恒电科技有限公司
申请人地址 :
北京市丰台区北四环西路118号十一区10号楼2层203室
代理机构 :
北京东方汇众知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王庆彬
优先权 :
CN201920952415.7
主分类号 :
G05D3/12
IPC分类号 :
G05D3/12  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05D
非电变量的控制或调节系统
G05D3/00
位置或方向的控制
G05D3/12
使用反馈的
法律状态
2019-12-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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