一种高纯硅加工用酸洗后酸碱平衡设备
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种高纯硅加工用酸洗后酸碱平衡设备,包括壳体和支腿,所述壳体的下表面均匀固接有多个支腿,所述动力机构的底端安装有干燥机构,所述干燥机构与壳体的顶端活动相连,所述壳体内部的左上角及右上角均安装有进水机构,所述壳体内部的中间偏下位置固接有支撑架,所述壳体的底端开设有出水口,所述壳体的出水口位置安装有球阀。该高纯硅加工用酸洗后酸碱平衡设备,通过水管接头、水管和喷头的配合,实现了喷淋操作,使支撑架上的待酸碱平衡的原料实现酸碱平衡,通过换料结构,实现了原料的更换,相较于传统方式,本实用新型使酸碱平衡操作更加规范化,且酸碱平衡后的废水得以收集便于集中处理及二次使用。
基本信息
专利标题 :
一种高纯硅加工用酸洗后酸碱平衡设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920958145.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-25
授权号 :
CN210176467U
授权日 :
2020-03-24
发明人 :
余水金汪天培
申请人 :
福建泰达高新材料有限公司
申请人地址 :
福建省三明市将乐县积善工业园区鹏程大道2号
代理机构 :
北京天奇智新知识产权代理有限公司
代理人 :
曾捷
优先权 :
CN201920958145.0
主分类号 :
C01B33/037
IPC分类号 :
C01B33/037 C01B33/02
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素;其化合物
C01B33/00
硅; 其化合物
C01B33/02
硅
C01B33/037
纯化
法律状态
2021-06-01 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C01B 33/037
申请日 : 20190625
授权公告日 : 20200324
终止日期 : 20200625
申请日 : 20190625
授权公告日 : 20200324
终止日期 : 20200625
2020-03-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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