浅基坑双工位伸缩式升平舞台

授权

摘要

本实用新型公开了一种浅基坑双工位伸缩式升平舞台，包括固定在基坑中的固定母台架，其特征是所述固定母台架腹腔底部设有水平移动的行走顶升架，在行走顶升架上方的母台架内具有伸缩台架的容纳空间；所述行走顶升架和伸缩台架之间通过楔形升降机构和双向制约机构连接；所述行走顶升架中设有驱动机构。通过“母子”方式的固定母台架、伸缩台架的设计，满足1米以下或无基坑舞台的伸展布置要求，实际获得3个可用工位，单独固定母台架平台，固定母台架+伸缩台架组合大平台，固定母台架+伸缩台架组合台阶平台，结构紧凑，运行稳定。

基本信息

专利标题：

浅基坑双工位伸缩式升平舞台

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920986309.0

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-06-27

授权号：

CN210370062U

授权日：

2020-04-21

发明人：

裘金婧裘国梁张建蒋琪陈灿

申请人：

杭州光圣舞台设备开发有限公司

申请人地址：

浙江省杭州市上城区秋涛路18号中国针织城十三层1311室

代理机构：

杭州新源专利事务所(普通合伙)

代理人：

刘晓阳

优先权：

CN201920986309.0

主分类号：

E04H3/26

IPC分类号：

E04H3/26