浅基坑双工位伸缩式升平舞台
授权
摘要
本实用新型公开了一种浅基坑双工位伸缩式升平舞台,包括固定在基坑中的固定母台架,其特征是所述固定母台架腹腔底部设有水平移动的行走顶升架,在行走顶升架上方的母台架内具有伸缩台架的容纳空间;所述行走顶升架和伸缩台架之间通过楔形升降机构和双向制约机构连接;所述行走顶升架中设有驱动机构。通过“母子”方式的固定母台架、伸缩台架的设计,满足1米以下或无基坑舞台的伸展布置要求,实际获得3个可用工位,单独固定母台架平台,固定母台架+伸缩台架组合大平台,固定母台架+伸缩台架组合台阶平台,结构紧凑,运行稳定。
基本信息
专利标题 :
浅基坑双工位伸缩式升平舞台
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920986309.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-27
授权号 :
CN210370062U
授权日 :
2020-04-21
发明人 :
裘金婧裘国梁张建蒋琪陈灿
申请人 :
杭州光圣舞台设备开发有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市上城区秋涛路18号中国针织城十三层1311室
代理机构 :
杭州新源专利事务所(普通合伙)
代理人 :
刘晓阳
优先权 :
CN201920986309.0
主分类号 :
E04H3/26
IPC分类号 :
E04H3/26
相关图片
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E04
建筑物
E04H
专门用途的建筑物或类似的构筑物;游泳或喷水浴槽或池;桅杆;围栏;一般帐篷或天篷
E04H3/00
公共的或类似用途的建筑物或建筑群;公共机构,例如,诊所,监狱
E04H3/10
供集会,娱乐或体育用的
E04H3/22
剧院,音乐厅;扩音室,电影摄影棚,电视摄影棚或类似建筑
E04H3/24
舞台的结构特征
E04H3/26
转台;能下降的舞台
法律状态
2020-04-21 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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