用于光谱分析的系统及其模拟隔膜受到循环挤压的装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种模拟隔膜受到循环挤压的装置，包括：用以容纳液体的腔体、设于所述腔体内的隔膜固定装置和用以挤压隔膜的压头；所述腔体相对的两侧分别开设进光孔和透光孔，且所述进光孔和所述透光孔设有密封二者的滤光片，所述压头开设通光孔，所述进光孔、所述通光孔和所述透光孔位于同一直线上，还包括用以驱动所述压头对隔膜进行挤压的驱动装置。本实用新型还公开一种包括上述模拟隔膜受到循环挤压的装置的用于光谱分析的系统。本实用新型所提供的模拟隔膜受到循环挤压的装置能够显著提高隔膜的检测效率。
基本信息
专利标题 ：
用于光谱分析的系统及其模拟隔膜受到循环挤压的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920989846.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-26
授权号 ：
CN210243483U
授权日 ：
2020-04-03
发明人 ：
袁子丹谢嘉宜雷彩红徐睿杰
申请人 ：
广东工业大学
申请人地址 ：
广东省广州市越秀区东风东路729号大院
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙晓红
优先权 ：
CN201920989846.0
主分类号 ：
G01N21/31
IPC分类号 ：
G01N21/31 G01R31/385
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/25
颜色；光谱性质，即比较材料对两个或多个不同波长或波段的光的影响
G01N21/31
测试材料在特定元素或分子的特征波长下的相对效应，例如原子吸收光谱术
法律状态
2020-04-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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