一种便于去除水垢的水浴锅
授权
摘要
本实用新型涉及一种便于去除水垢的水浴锅，属于化学实验仪器设备技术领域，包括锅体以及设置在锅体内的水槽，所述锅体上设置有支架，所述支架上设置有储醋箱，所述储醋箱的侧壁上设置有用于将储醋箱内的食醋抽出的水龙头，所述锅体的两侧设置有轨道，所述支架滑动设置在轨道上，所述水龙头处于水槽上端开口的上方，本实用新型具有方便去除水槽内的水垢的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种便于去除水垢的水浴锅
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920991060.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-27
授权号 ：
CN210279206U
授权日 ：
2020-04-10
发明人 ：
韩旭杨刚刘涛余春
申请人 ：
成都伍田食品有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市新津县五津镇温州路18号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920991060.2
主分类号 ：
B01L7/02
IPC分类号 ：
B01L7/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01L
通用化学或物理实验室设备
B01L7/00
加热或冷却设备；绝热设备
B01L7/02
水浴槽；砂浴槽；空气浴槽
法律状态
2020-04-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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