建筑结构缝构造

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摘要

本实用新型属于建筑工程领域的一种建筑结构缝构造，技术方案为：一种建筑结构缝构造，包括结构缝，及位于结构缝两侧的第一土建构件和第二土建构件，结构缝上端设有结构缝盖板，结构缝由上垂直段、水平过度段和下垂直段组成，上垂直段和下垂直段错开，水平过度段分别连接上垂直段和下垂直段，上垂直段的高度小于或等于0.7米。其保障了当结构缝盖板破坏时，结构缝周边的人员生命财产安全。

基本信息

专利标题：

建筑结构缝构造

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921016733.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-07-02

授权号：

CN210597674U

授权日：

2020-05-22

发明人：

郭建祥周健杨学鲁高扬

申请人：

华东建筑设计研究院有限公司

申请人地址：

上海市黄浦区汉口路151号

代理机构：

代理人：

优先权：

CN201921016733.9

主分类号：

E04B1/68

IPC分类号：

E04B1/68 E04B1/682 E04B1/98 E04H9/02 E03F3/04