一种用于稳定工业电子直线加速器靶前剂量率的系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于稳定工业电子直线加速器靶前剂量率的系统，其包括靶前电离室、加速管、磁控管、磁控管调谐电机、电离室信号处理模块、PID控制处理算法控制器、AFC控制处理模块、伺服驱动系统，所述电离室信号处理模块连接靶前电离室，所述PID控制处理算法控制器连接电离室信号处理模块并通过实时读取电离室信号处理模块内的剂量率数据，所述伺服驱动系统连接PID控制处理算法控制器和磁控管调谐电机，所述磁控管调谐电机连接加速管，所述加速管输出端对准靶前电离室。本实用新型可以更快速和稳定地稳定工业电子直线加速器的靶前剂量率，在加速器数字成像中能产生更清晰的工件内部照片，来检测以前不易发现的缺陷。
基本信息
专利标题 ：
一种用于稳定工业电子直线加速器靶前剂量率的系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921056002.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-08
授权号 ：
CN209731680U
授权日 ：
2019-12-03
发明人 ：
郭成伟陈浩冯进忠
申请人 ：
成都奕康真空电子技术有限责任公司
申请人地址 ：
四川省成都市郫县成都市郫都区成都现代工业港北片区港通北三路269号
代理机构 ：
成都为知盾专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
李汉强
优先权 ：
CN201921056002.7
主分类号 ：
H05H9/00
IPC分类号 ：
H05H9/00 H05H7/22
法律状态
2019-12-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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