一种应用于石斛栽培的温室立体栽培装置

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摘要

本实用新型提供了一种应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，其中，所述装置包括一个培养架主体，所述培养架主体包括方形的第一侧面架和方形的第二侧面架，所述第一侧面架和第二侧面架通过各自的一条水平侧边相互搭接，两者的另一条水平侧边分别支承于地面上；所述第一侧面架和第二侧面架都具有能够放置栽培植料的网格结构；并且所述网格结构的最低处距离地面的高度为0.2～0.4米；该装置采用简单的结构实现了扩大单位种植面积，隔绝了石斛植料与土壤的直接接触，在石斛栽培过程中可以无需使用农药，能够在自然光源条件下实现石斛的立体种植，更有效地利用种植空间，在保证了石斛种植品质的基础之上，降低种植成本，大大提高石斛产量。

基本信息

专利标题：

一种应用于石斛栽培的温室立体栽培装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921068338.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-07-09

授权号：

CN210275443U

授权日：

2020-04-10

发明人：

刘银占陈安群吕彤汪国海万师斌

申请人：

河南大学

申请人地址：

河南省开封市金明大道

代理机构：

重庆百润洪知识产权代理有限公司

代理人：

王立武

优先权：

CN201921068338.5

主分类号：

A01G31/06

IPC分类号：

A01G31/06 A01G31/00