一种硅片超声波循环清洗器
授权
摘要

本实用新型公开了一种硅片超声波循环清洗器,包括清洗槽,清洗槽上部外侧安装控制面板,控制面板下方设置的电机一端机械连接第一旋转杆的一端,第一旋转杆贯穿安装在清洗槽壁内的轴承,且固接硅片放置架的一侧,硅片放置架的另一侧固接第二旋转杆的一端,第二旋转杆的另一端插入轴承座内,超声波发生器两侧分别设置鼓泡器,清洗槽底部中心位置连接有出液管,出液管连接过滤净化器,过滤净化器连接蓄液槽,蓄液槽连接排液管的下端口,排液管上安装有增压泵,排液管的上端口连通清洗槽的上部。本实用新型能够实时循环利用过滤净化后的清洗液,将硅片清洗干净且能够将局部清洗液的温度和化学试剂快速扩散至整个清洗液中。

基本信息
专利标题 :
一种硅片超声波循环清洗器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921070814.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-09
授权号 :
CN210411745U
授权日 :
2020-04-28
发明人 :
胡安东
申请人 :
扬州宏祥光电科技有限公司
申请人地址 :
江苏省扬州市高邮市天山镇工业集中区
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921070814.7
主分类号 :
B08B3/10
IPC分类号 :
B08B3/10  B08B3/12  B08B3/14  B08B13/00  H01L21/67  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的,如用加热,电力,振动
法律状态
2020-04-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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