一种真空隔离室
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摘要

本实用新型公开了一种真空隔离室的技术方案,包括隔离室腔体和阀门结构,隔离室腔体包括顶盖和底盖,顶盖和底盖上设有进料口和出料口,并连接有密封连接道,在密封连接道的端部设有连接装置;阀门结构设置在底盖上,位于隔离室腔体的内部,阀门结构封闭出料口,其阀体上设可启闭的阀板,隔离室腔体的侧壁上开设有一个抽真空口。本实用新型的一种真空隔离室为连接真空感应熔炼炉的上料系统和熔炼系统的模块化组件,安装便捷高效,为上料系统和熔炼系统之间增加了真空缓冲区,从而在上料时实现了熔炼系统的真空隔离,使得不停炉不间断上料作业成为了可能,节省了装料和等待冷却的时间,连续的生产在增加效率的同时也增加了合金的产量。

基本信息
专利标题 :
一种真空隔离室
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921074537.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-10
授权号 :
CN210569928U
授权日 :
2020-05-19
发明人 :
黄超邹勤
申请人 :
无锡应达工业有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市新区锡梅路92号
代理机构 :
上海兆丰知识产权代理事务所(有限合伙)
代理人 :
章蔚强
优先权 :
CN201921074537.7
主分类号 :
F27B14/04
IPC分类号 :
F27B14/04  F27B14/08  
相关图片
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B14/00
坩埚炉或罐式炉;浴炉
F27B14/04
适宜用于在真空中或特殊气氛中处理炉料的
法律状态
2020-05-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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