一种能够消除基坑偏压的管廊基坑支护结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种能够消除基坑偏压的管廊基坑支护结构,包括围护桩、围护桩冠梁及支撑体系,在基坑外侧土压力较小的围护桩外侧设有至少一排与其同向排列的微型钢管灌注桩,在所述微型钢管灌注桩的顶部设有微型钢管灌注桩冠梁,所述微型钢管灌注桩的顶部锚固在所述微型钢管灌注桩冠梁内,所述微型钢管灌注桩冠梁与所述围护桩冠梁通过连系梁连接在一起。本实用新型利用微型钢管灌注桩来平衡基坑外侧土压力,消除基坑偏压,避免基坑变形,从根本上解决了基坑偏压的技术难题。并且本实用新型的整体刚度好,受力均匀,结构稳定;施工工艺简单,安全隐患少,费用低;施工占地面积较小,施工工期短,可以明显提高偏压基坑的施工效率,占地时间较短。
基本信息
专利标题 :
一种能够消除基坑偏压的管廊基坑支护结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921099594.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-15
授权号 :
CN210887228U
授权日 :
2020-06-30
发明人 :
韩逗徐利谷传灵周刚同李荣昌曹雪峰唐庚庚贾新王玺
申请人 :
中国建筑第六工程局有限公司
申请人地址 :
天津市滨海新区开发区第一大街泰达MSD-C1座21层
代理机构 :
天津市北洋有限责任专利代理事务所
代理人 :
张金亭
优先权 :
CN201921099594.0
主分类号 :
E02D17/04
IPC分类号 :
E02D17/04 E02D5/38
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D17/00
挖方;挖方边缘的修砌;填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2020-06-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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