一种地下室与支护桩构成的基础结构
授权
摘要
一种地下室与支护桩构成的基础结构，包括地下室和支护桩；支护桩的顶部之间连有冠梁，冠梁的顶面与外墙顶部平齐；在冠梁的顶部连接有地下室的水平结构；在相邻支护桩之间、紧贴桩间土的外侧面铺挂有钢板网片；钢板网片的外侧依次设置有钢筋网片、混凝土面层、防水层和保护层；钢筋网片压设在钢板网片的外侧；混凝土面层的外表面与支护桩的外侧面平齐；防水层设置在支护桩和混凝土面层的外侧；保护层设置在防水层的外侧；在防水层与地下室的外墙之间的间隙中填充有回填土；冠梁的顶部埋设有与地下室的水平结构相连接的顶部锚筋。本实用新型解决了传统的支护桩在地下室施工完毕后与地下结构独立存在，从而造成支护结构的浪费的技术问题。
基本信息
专利标题 ：
一种地下室与支护桩构成的基础结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921103986.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-15
授权号 ：
CN210439302U
授权日 ：
2020-05-01
发明人 ：
王恒刘京城钟鑫申利成钟涛李振波卢海丰张羽李哲李振坤胡旭东姚友波高磊刘宇赵健成于雷
申请人 ：
北京城建集团有限责任公司
申请人地址 ：
北京市海淀区北太平庄路18号城建大厦B座19、21层
代理机构 ：
北京中建联合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
高芳
优先权 ：
CN201921103986.X
主分类号 ：
E02D17/04
IPC分类号 ：
E02D17/04 E02D17/20 E02D31/02 E02D19/18
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2020-05-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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