一种易清洗的温控反应釜
授权
摘要
本实用新型涉及反应釜技术领域，特别是涉及一种易清洗的温控反应釜，包括：釜体的底部安装有出料管，釜体侧面为夹套结构依次为内壁、温控片、保温层和外壁釜盖安装在釜体的顶部并设置有进料口；搅拌装置贯穿所述釜盖并向下延伸，搅拌电机的输出端与搅拌轴转动链接，搅拌轴的末端可拆卸安装有搅拌叶片或清洁毛刷；温度传感器安装在釜体底部。本实用新型解决现有技术中反应釜不易清洗以及温控效果不理想的问题，通过设计伸缩搅拌使得搅拌效果好的同时，还可以通过清洁毛刷实现自动清洁，采用清洁毛刷其清洁效果好于搅拌清洗；在通过设计温控片实现不同温度的调控。
基本信息
专利标题 ：
一种易清洗的温控反应釜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921160344.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-23
授权号 ：
CN210584925U
授权日 ：
2020-05-22
发明人 ：
饶晓霞
申请人 ：
上海丰野表面处理剂有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区金丰路170号5幢
代理机构 ：
上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
赵朋晓
优先权 ：
CN201921160344.3
主分类号 ：
B01J19/18
IPC分类号 ：
B01J19/18 B01J19/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01J
化学或物理方法，例如，催化作用或胶体化学；其有关设备
B01J19/00
化学的，物理的或物理—化学的一般方法；及其有关设备
B01J19/18
具有内部移动元件的固定式反应器
法律状态
2020-05-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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