地下室底板后浇带的排水结构

授权

摘要

本实用新型涉及一种地下室底板后浇带的排水结构，地下室底板对应于后浇带的底部由上至下依次设置有加强层和垫层，排水结构包括：设于后浇带底部的加强层和垫层的洞口；上下开口且内部贯通的套管，套管插设于洞口内，套管的底端抵靠于洞口的底面且套管的顶端凸伸出后浇带的顶面，套管的位于加强层之下的侧壁间隔设有通孔；封堵于套管和洞口内壁之间的填充层，填充层的顶面低于加强层的顶面；设于套管内的水泵，通过水泵抽排地下室底板之下的地下水；在水泵完成抽排地下室底板之下的地下水之后密实填充套管的封堵层。本实用新型无需设置模板浇筑形成集水坑，施工工序简单，操作方便效率高。

基本信息

专利标题：

地下室底板后浇带的排水结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921160431.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-07-23

授权号：

CN210712963U

授权日：

2020-06-09

发明人：

虞成章刘家印徐欢周大志马祥李智孙广超唐伟伟陈新喜李赟

申请人：

中国建筑第八工程局有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区世纪大道1568号27层

代理机构：

上海唯源专利代理有限公司

代理人：

王红艺

优先权：

CN201921160431.9

主分类号：

E02D29/16

IPC分类号：

E02D29/16 E02D31/02