一种瞄准系统
授权
摘要

本实用新型公开了一种瞄准系统,该瞄准系统包括光学元件、延长节、二维调节台、支撑机构、支撑机构后端法兰、转接法兰、变焦距光学系统和视觉系统,变焦距光学系统的前端面向光学元件,后端与视觉系统连接。变焦距光学系统内设有“十”字分划板,它的瞄准轴穿过“十”字分划板的“十”字中心和支撑机构后端法兰的后端面中心。在瞄准系统中安装有转动调节装置,用于驱动变焦距光学系统的瞄准轴沿两正交方向转动,还设置有照明光源,能够方便照亮靶及光学系统。本实用新型的瞄准系统兼具节约空间、使用方便、瞄准精度高和工作效率高的优点,可用于等离子体诊断中,对等离子体目标靶、光学元件和探测器进行“三点一线”瞄准。

基本信息
专利标题 :
一种瞄准系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921170606.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-24
授权号 :
CN210109641U
授权日 :
2020-02-21
发明人 :
杨志文董建军毕碧李晋袁铮陈韬杨品曹柱荣刘慎业陈铭
申请人 :
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请人地址 :
四川省绵阳市919信箱986分箱
代理机构 :
中国工程物理研究院专利中心
代理人 :
翟长明
优先权 :
CN201921170606.4
主分类号 :
G05D3/10
IPC分类号 :
G05D3/10  G02B23/00  G02B27/34  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05D
非电变量的控制或调节系统
G05D3/00
位置或方向的控制
G05D3/10
没使用反馈的
法律状态
2020-02-21 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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