一种可升降调节的井盖组件
授权
摘要
本申请公开了一种可升降调节的井盖组件，包括底座和井盖；底座为环形，其中部下沉形成用于坐落井盖的环形台面；底座的上表面对应与井盖连接处设有凹槽；凹槽的侧边设有第一转轴；第一转轴上套接有底部封口的n型调节块；调节块靠近井盖的一侧连接有第二转轴；第二转轴的两端通过弯折杆焊接在调节块的外侧壁；井盖的侧边与第二转轴可转动连接；环形台面与井盖之间活动地放置有环形的第一垫块；调节块的底面与凹槽之间活动地放置有第二垫块；底座的上方活动地放置有环形的第三垫块。本申请提供的井盖组件保证井盖与路面水平，降低了井盖与路面不平时重物压的时候产生的噪声；相对于现有技术中的采用升降装置抬高井盖的技术方案，结构强度更稳固。
基本信息
专利标题 ：
一种可升降调节的井盖组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921173498.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-24
授权号 ：
CN210529768U
授权日 ：
2020-05-15
发明人 ：
王广胜
申请人 ：
王广胜
申请人地址 ：
天津市武清区广源道南侧天鹅苑4-504
代理机构 ：
天津市鼎拓知识产权代理有限公司
代理人 ：
朱丽丽
优先权 ：
CN201921173498.6
主分类号 ：
E02D29/14
IPC分类号 ：
E02D29/14
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D29/00
地下或水下结构物；挡土墙
E02D29/12
人孔井；其他检查室或人可进入的室；其附属物
E02D29/14
人孔或类似物的盖；盖的框架
法律状态
2020-05-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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