基坑周边排水沟
授权
摘要
本实用新型涉及基坑周边排水沟,包括墙背土体、排水沟槽道、撑架横梁、水沟底模、水沟侧模、注浆控位管、控位压杆和水沟滤板;墙背土体内挖设排水沟槽道,排水沟槽道的外侧壁上铺设撑架滑槽;撑架立柱与撑架横梁垂直连接,撑架立柱底端的立柱转轮与撑架滑槽相接;水沟底模和水沟侧模通过侧模转轴连接,注浆控位管与水沟底模连接,水沟底模、水沟侧模和注浆控位管整体吊装至排水沟槽道内;注浆管支管一端与注浆控位管连通,另一端插至水沟侧模的浇筑粘结面处。本实用新型的有益效果是:本实用新型可同步通过注浆控位管、控位压杆和模板压杆控制水沟底模和水沟侧模的位置,提高了模板结构支设的质量。
基本信息
专利标题 :
基坑周边排水沟
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921208329.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-30
授权号 :
CN210562233U
授权日 :
2020-05-19
发明人 :
钱密陈建麻玉侠金明春汪庆豪王柏军章立旺
申请人 :
瑞洲建设集团有限公司
申请人地址 :
浙江省温州市泰顺县罗阳镇银都花园29幢101-1室
代理机构 :
杭州九洲专利事务所有限公司
代理人 :
张羽振
优先权 :
CN201921208329.1
主分类号 :
E02D19/08
IPC分类号 :
E02D19/08 E02D19/22
相关图片
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D19/00
保持地下基础地段或其他面积的干燥
E02D19/06
地下水的节制
E02D19/08
通过使用在地下水位以下建的明渠
法律状态
2020-05-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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